なぜこのタイミングで分析を行う意味があるのか

直近決算でアプリ別（NAND／DRAM／ロジック）や地域別（中国／非中国）のミックスが明確になり、通期計画は下期偏重を前提に据え置かれました。
また、業界では2025年に向けてWFE（前工程装置）市場が過去最高圏で推移する見方が優勢です。
こうした「量と方向」が見えやすい局面は、同社の勝ち筋（何を伸ばすか）と弱点（何に揺さぶられるか）を言語化するベストタイミングです。

• 短期：NAND回復と先端DRAM（HBM）投資を取り込み、H2（下期）で台数・構成が改善
• 中期：GAA/CFETを見据えた成膜・改質ニーズの増大で、ALDの構造的需要が続く
• 留意：対中規制や関税動向で出荷タイミングが変動し得る（地域ミックスのボラ）

分析対象の概要

コクサイエレは、装置（成膜・熱処理）とサービス（保守・パーツ・レトロフィット）の二本柱。上場後は生産能力増強と顧客接点強化を加速し、インストールベースの拡大＝サービス売上の粘着性を高めています。
歴史的にも成膜分野に尖り、買収提案などを経て現在は独立性を保ちつつ、世界の大手メモリ／ロジック顧客と深い関係を築いています。

• プロダクト：バッチ式ALD／LP-CVD、単枚（プラズマ）トリートメント、アニール等
• 収益構造：装置売上に加え、サービスが安定キャッシュ源として粗利を下支え
• 顧客層：大手メモリ、先端ロジック／ファウンドリ、中国ローカルも含む広範な裾野

事業内容と業界動向

多層化・微細化が進む過程で、配線溝や三次元構造の隅々まで均一に膜を成長させるALDの価値は年々高まっています。
NANDは層数増に伴い被覆性・段差被覆の要件が厳格化、HBM対応DRAMは熱バジェットや欠陥管理の難度が上がり、ロジックはGAA移行でゲート周りの均一性が品質と歩留まりを左右します。
これらはすべて、成膜とトリートメントの“質”がボトルネック化しやすい領域です。

• NAND：3D積層の継続拡大→バッチALDのスループット優位が効く
• DRAM：HBM立ち上げで層間欠陥と均一性の管理が厳格化
• ロジック：GAAでチャネル周辺の面内均一性・コンフォーマル性要求が上昇
• 地域：投資額は中国が大きい一方、規制影響によるタイミングのブレが大きい

SWOT分析（強み・弱み・機会・脅威）

強み

• ニッチトップ：バッチALDで世界上位の存在感。歩留まり×スループットの両立
• サービスの粘り：インストールベース拡大で不況期でも粗利が崩れにくい
• 顧客密着：量産現場でのプロセス・改造提案力（POR獲得→量産導入を加速）

弱み

• ポートフォリオの狭さ：露光・計測・エッチング等を持つ総合勢に比べ守備範囲が限定
• 地域ボラ：中国比率の振れが四半期の収益変動を増幅
• 能力増強フェーズ：新拠点・人員強化で固定費の先行負担が発生

機会

• HBM×GAA×3D NAND：構造変化の中心に「良い成膜・改質」がある
• レトロフィット：改造・部品置き換えで既存装置の性能を底上げ、粗利率が高い
• 地域ミックス改善：非中国の先端投資回復で収益性の底上げ余地

脅威

• 対中規制／関税：出荷対象・時期の変動リスク
• 中国ローカル装置の台頭：バッチ拡散／CVDなど隣接領域で競争激化
• 為替・サイクル：メモリ価格や投資サイクルの反動局面

競合他社との主要な財務指標比較（参考）

※おおまかな目安（直近公表値ベース）。詳細は各社IR・決算資料をご確認ください。

セクター比較

半導体製造装置セクターは、AI需要の本格化に伴いHBM（先端DRAM）と3D NANDが牽引役。
米大手は30%前後の営業利益率が目安、日本大手は20%台前半がボリュームゾーンです。
コクサイエレは中位〜上位の収益性を確保しつつ、サービス売上の比率上昇でディフェンシブ性を強化しています。

• 投資ドライバー：HBM増産、GAA移行、NAND層数拡大、SiCパワー
• 評価軸：営業利益率、受注残、サービス比率、地域ミックス
• 注目KPI：ブック・トゥ・ビル（受注／売上）、粗利率、POR獲得スピード

今後の戦略と展望の分析

同社が掲げる中計のコアは、「WFE成長率を上回る売上成長」と「調整後OPMの段階的引き上げ」です。
製品面ではミニバッチALDや単枚トリートメントの深掘り、用途面ではNAND／DRAM／先端ロジックのバランス最適化、事業面ではサービスの継続伸長を三位一体で進めます。
砺波の新工場による生産性向上と米国デモセンターの稼働は、供給能力×POR獲得の同時強化という意味で戦略的です。

• ミックス戦略：非中国の先端投資回復で地域ミックス改善→粗利率の底上げ
• 製品ロードマップ：GAA/将来CFETまで見据えた成膜・改質プロセスの高度化
• サービス戦略：レトロフィット／改造提案の標準化で粗利確保と顧客粘着度を強化
• 投資計画：拠点強化や設備投資は先行負担も、量産期に営業レバレッジを発揮

FY26/3は下期偏重で会社計画線上、FY27/3以降はNAND回復と先端DRAMの両輪がかみ合い、OPM30%台への接近余地。
ただし、対中規制や関税再燃、成熟ロジックの鈍さが下振れシナリオの要因となり得ます。

投資家にとってのメリットとリスク

メリット

• 構造的追い風：HBM・GAA・3D NANDという「成膜が効く」テーマが継続
• 高収益モデル：サービス比率の上昇でキャッシュ創出のボラを低減
• 顧客密着：量産現場の課題に即した提案力でPOR獲得と立ち上げ速度を向上

リスク

• 地政学・規制：対中規制や関税で出荷時期／対象が変動
• 競争：総合装置大手や中国ローカルの追い上げ（価格×技術の両面）
• 為替・サイクル：メモリ価格の反動、円高局面での採算圧迫

まとめ

コクサイエレは、「装置の尖り（バッチALD・トリートメント）×サービスの粘り」で中位〜上位の収益性を維持する優良ニッチです。
現下の波であるNAND回復＋HBM拡張にプロダクトが合致し、地域ミックスが改善すればマージン階段をもう一段上げられる公算が高いと見ます。
一方で、政策リスクや中国依存のボラ、ポートフォリオの狭さは常に点検が必要です。

• 毎決算でアプリ別・地域別ミックスとサービス比率を確認
• 砺波新工場の稼働度と受注・B/Bの積み上がりを追跡
• セクターではPER・OPM・受注残をAMAT／LRCX／TEL／SCREENと相対評価

免責事項：本記事は情報提供を目的としたものであり、特定銘柄の売買を推奨するものではありません。数値・見解は執筆時点の公表情報をもとにした目安であり、将来の成果を保証するものではありません。